Вычислительная литография, или вычислительное масштабирование, представляет собой набор математических и алгоритмических подходов, предназначенных для улучшения способов использования света для создания тонких пленок материала с очень мелкими узорами на подложке, такой как кремниевая пластина, для защиты ее во время последующие операции, такие как травление. Это звучит очень сложно, но, по сути, вычислительная литография — это создание узоров на кремниевых пластинах. если вы можете представить себе сложность и миниатюризацию кремниевых микросхем сегодня по сравнению с предыдущими десятилетиями, вы поймете, что разработчики микросхем всегда пытаются сделать гораздо больше, используя то же или меньшее пространство на кремнии.
Это был вызов для полупроводниковой промышленности, и хотя мы могли бы сказать, что можем добиться всего с помощью программного обеспечения, наше оборудование абсолютно связано законами физики, которые управляют нашей вселенной. Чтобы сделать больше, требуется огромная вычислительная мощность, и это то, что Nvidia взломала.
Секретным соусом является новое программное обеспечение cuLitho от Nvidia, которое обеспечивает значительный 40-кратный скачок вычислительной производительности по сравнению с существующими процессами. Эти рабочие нагрузки потребляют десятки миллиардов часов ЦП каждый год.
|
“);
|
Новая программная библиотека NVIDIA cuLitho для вычислительной литографии интегрируется TSMC, ведущим мировым литейным заводом, а также лидером в области автоматизации проектирования электроники. Синопсис в свое программное обеспечение, производственные процессы и системы для графических процессоров с архитектурой NVIDIA Hopper последнего поколения.
Кроме того, производитель оборудования ASML тесно сотрудничает с NVIDIA в области графических процессоров и cuLitho и планирует интегрировать поддержку графических процессоров во все свои программные продукты для вычислительной литографии.
Что все это означает на практике?
Ну, во-первых, прогресс позволит использовать чипы с более маленькими транзисторами и проводами, чем сейчас, а также ускорить время выхода на рынок и повысить энергоэффективность огромных центров обработки данных, которые работают круглосуточно и без выходных для управления производственным процессом.
Кроме того, производство с использованием cuLitho позволяет ежедневно производить в три-пять раз больше шаблонов проектирования микросхем (фотошаблонов), используя при этом одну девятую мощности текущих конфигураций. Фотошаблон, на который раньше уходило две недели, теперь можно обработать за ночь.
А это, в свою очередь, приведет к лучшему дизайну, более высокой плотности и более высокой производительности и, в конечном итоге, к литографии на базе ИИ.
Чтобы узнать больше, вы можете посмотреть выступление основателя и генерального директора Nvidia Дженсена Хуанга. Основной доклад GTC 2023 и посетить заседание конференции»Ускорение вычислительной литографии», представленный архитектором NVIDIA cuLitho Вивеком К. Сингхом. Вы можете бесплатно зарегистрироваться в GTC.
«Индустрия чипов является основой почти любой другой отрасли в мире», — сказал Хуанг. «С литографией на пределе физических возможностей NVIDIA представила cuLitho и сотрудничество с нашими партнерами TSMC, ASML и Synopsys позволяет фабрикам увеличить производительность, уменьшить выбросы углекислого газа и заложить основу для 2 нм и более».
Читать полную новость на сайте
